尼康在近期發布的2025財年第三財季財報演示文稿中，披露了一項重大研發計劃。據悉，該公司正攜手合作伙伴，致力于開發一款能夠融入ASML主導的浸沒式ArF光刻生態系統的新型光刻機。這款產品的目標上市時間定為2028財年，即2027年4月至2028年3月期間。
在浸沒式ArF光刻領域，ASML憑借其先進的TWINSCAN雙工件臺技術，已經占據了超過九成的市場份額。而尼康，作為該領域的另一位主要參與者，正尋求提升其在市場中的占比，目標是將份額提高到與干式ArF領域相當的水平。
尼康認為，隨著DRAM內存和邏輯半導體技術向三維方向發展，浸沒式ArF光刻的需求將會持續增長。為了從ASML手中爭取更多的ArFi訂單，尼康計劃使其正在開發的光刻機與ASML的同類設備生態系統兼容，這將有助于那些原本計劃采用ASML光刻機的用戶更容易地遷移到尼康平臺。
尼康還透露，其新一代浸沒式ArF光刻機將采用創新的鏡頭和工件臺設計，并且具有尺寸緊湊、易于維護的特點。這些技術優勢將有助于尼康在市場上與ASML展開更激烈的競爭。尼康還表示，他們預計將在2030年后啟動再下一代光刻機的開發工作。
